人工氮化硼散熱膜

是一款由奈米級氮化硼複合而成的高效導熱薄膜，具備低介電常數與低介電損耗、優異的透電磁波性能，同時擁有高導熱、高絕緣與耐高溫特性。其柔韌性佳、易於加工，並能搭配背膠設計使用，非常適合射頻晶片、毫米波天線及電池模組等高頻與高功率領域的散熱應用。

• 厚度：30 / 50 / 80 / 100 / 150 / 200 μm
• 氮化硼固含量：≥ 92 %
• 熱傳導率：≥ 50 W/m·K
• 抗電擊穿強度：> 40 KV/mm
• 使用溫度範圍：-40 ～ 120 ℃

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